光催氧化設(shè)備的工作原理是利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、和苯乙烯，硫化物H₂S、VOC類，苯、二的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO₂、H₂O等。

利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

       利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

    UV＋O₂→O^-+O^＊(活性氧)O+O₂→O₃(臭氧),眾所周知臭氧對有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有好的清除效果。

光催氧化設(shè)備工藝原理：

光催化凈化設(shè)備適用范圍：
    本設(shè)備主要適用于食品生產(chǎn)、汽車制造、自行車、摩托車、家用電器、電線電纜、漆包線、電機(jī)絕緣處、電器、儀表、電子、石油化工、涂料、化工、醫(yī)藥、印鐵、印刷、紡織、家俱、人造合成木材、皮革、鑄造、制鞋業(yè)等產(chǎn)生廢氣的行業(yè)進(jìn)行凈化治理。

光催化凈化設(shè)備安裝示例：

實(shí)例工程圖：